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          資訊動態

          推動各種氣體在顯示屏應用的主要因素

          發布時間:2023-11-10 瀏覽:329次 返回列表

          推動顯示屏制造中使用氣體的主要因素包括PECVD(等離子體增強化學氣相沉積),占ESG消耗的75%,而干法蝕刻則推動了氦氣的使用。LTPS和MO晶體管的生產推動了氧化亞氮的使用。ESG在MO晶體管生產中的使用情況與圖4所示不同:氧化亞氮占氣體消耗的63%,三氟化氮占26%,硅烷占7%,六氟化硫和氨一共約占4%。激光氣體不僅用于光刻,也用于LTPS中準分子激光退火應用。

          硅烷:SiH4是顯示屏制造中關鍵的氣體之一,與氨氣(NH3)結合使用,形成用于a-Si晶體管的氮化硅層,與氮氣(N2)結合使用,形成用于LTPS晶體管的預準分子激光退火a-Si,或與氧化亞氮(N2O)結合使用形成MO晶體管的氧化硅層。

          三氟化氮:從a-Si和LTPS顯示屏生產中的消耗和使用量來看,NF3是a-Si和LTPS顯示屏生產中使用多的單種電子材料,而在MO生產中,其使用量不如N2O。NF3用于清潔PECVD腔室。對于這種氣體,需要具備可擴展性,才能在競爭激烈的市場中建立所需的成本優勢。

          氧化亞氮:LTPS和MO顯示屏生產中均使用,從MO生產中的消耗和使用量來看,N2O已超過NF3成為MO生產中用量多的電子材料。N2O是一種區域性、本地化的產品,由于其成本低,無法采用物流成本高昂的長供應鏈。平均每5.5平方米素玻璃重約2公斤,每月一般需要240噸N2O才能生產120K的8.5 MO顯示屏。N2O壓縮氣體拖車每次只能提供6噸N2O,對于MO生產來說,這種做法成本高,風險大。

          氮氣:一般的大型顯示屏廠氮氣需求可高達50,000 Nm3/小時,因此現場發生器(如林德 SPECTRA-N?50,000)是一種具有成本效益的解決方案,與傳統的氮氣工廠相比,顯示屏制造中的CO2(二氧化碳)排放減少8%。

          氦氣:氦氣用于流程中和流程后冷卻玻璃。由于氦氣是一種不再生氣體,鑒于其成本和可得性,制造商正在研究減少氦氣的使用。


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